ชุบนิกเกิลแบบไม่ใช้ไฟฟ้า (Kanigen^®)

ความแตกต่างหลักคือ EN ไม่ต้องใช้กระแสไฟฟ้า แต่ใช้ปฏิกิริยาเคมีแบบออโตคะตะไลติก (Autocatalytic Reaction) โดยมีสารรีดิวซ์ (เช่น โซเดียมไฮโปฟอสไฟต์) เป็นตัวจ่ายอิเล็กตรอนให้ไอออนนิกเกิล (Ni²⁺) ซึ่งข้อดีที่สำคัญกว่าคือ:

• ความสม่ำเสมอของชั้นเคลือบ: EN ให้ความหนาของชั้นเคลือบที่สม่ำเสมอทั่วชิ้นงาน แม้ในส่วนที่มีรูปทรงซับซ้อน รู หรือมุมอับ ซึ่งการชุบด้วยไฟฟ้าทำได้ยาก
• คุณสมบัติของผิวเคลือบ: ผิวเคลือบ EN มักเป็นโลหะผสมนิกเกิล-ฟอสฟอรัส (Ni-P) ซึ่งมีคุณสมบัติเด่นในด้าน ความต้านทานการกัดกร่อน (Corrosion Resistance) และ ความแข็ง (Hardness) ที่สามารถเพิ่มขึ้นได้อีกด้วยการอบชุบความร้อน

ปริมาณฟอสฟอรัสมีผลโดยตรงต่อคุณสมบัติของชั้นเคลือบ EN โดยสามารถแบ่งได้เป็น 3 ระดับหลัก ซึ่งเป็นที่ต้องการสูงในช่วงนี้:

• ฟอสฟอรัสสูง (High-Phos: >10% P): ให้ความต้านทานการกัดกร่อนสูงสุด (ในสภาพแวดล้อมที่เป็นกรดหรือน้ำเกลือ) และมีคุณสมบัติที่ไม่เป็นแม่เหล็ก (Non-Magnetic)
• ฟอสฟอรัสปานกลาง (Mid-Phos: 5-9% P): ให้ความสมดุลระหว่างความแข็งและความต้านทานการกัดกร่อน
• ฟอสฟอรัสต่ำ (Low-Phos: 1-4% P): ให้ ความแข็งสูงสุด และมีความต้านทานการสึกหรอดีเยี่ยม มักใช้ในงานที่ต้องการความทนทานต่อการเสียดสี

การอบชุบความร้อน (Baking) เป็นขั้นตอนสำคัญหลังการชุบ ENP โดยมีวัตถุประสงค์หลัก 2 ประการ:

1. เพิ่มความแข็ง (Increase Hardness): ความร้อนจะทำให้โครงสร้างอสัณฐาน (Amorphous Structure) ของชั้นเคลือบนิกเกิล-ฟอสฟอรัสเปลี่ยนเป็นโครงสร้างผลึก (Crystalline Structure) ที่ประกอบด้วยผลึก Ni₃P ซึ่งจะทำให้ความแข็งเพิ่มขึ้นอย่างมาก และเพิ่มความทนทานต่อการสึกหรอ
2. เพิ่มการยึดเกาะ (Improve Adhesion): ความร้อนจะช่วยให้เกิดการแพร่กระจาย (Diffusion) ของอะตอมที่รอยต่อระหว่างชั้นเคลือบและวัสดุหลัก ทำให้การยึดเกาะของชั้นเคลือบกับวัสดุดีขึ้น โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับวัสดุเหล็กและอะลูมิเนียม